負責監督新型光刻機開發的佳能高管武石洋明1月27日接受采訪稱，采用納米壓印技術的佳能光刻設備FPA-1200NZ2C目標今年或明年出貨。
佳能于去年10月宣布推出FPA-1200NZ2C，稱其可制造5納米芯片。佳能方面表示，這款新設備的成本“將比ASML的EUV少一位數”，耗電量也會減少90%。（英國金融時報）
佳能：目標最快今年開始交付低成本納米壓印設備
界面快報 · 來源：界面新聞
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