彤程新材11月5日公告，年產1.1萬噸半導體、平板顯示用光刻膠及2萬噸相關配套試劑項目工程階段已竣工，目前已逐步進入試生產階段。公司上海化學工業區工廠占地36200平方米，設計能力年產1千噸半導體光刻膠、1萬噸顯示用光刻膠和2萬噸高純EBR試劑（光刻膠去邊劑）。同時在國際國內半導體廠商及光刻膠廠商戰略合作推動下，完成了產線優化及品控升級。此前公告，公司決定通過全資子公司上海彤程電子材料有限公司在上海化學工業區投資建設該項目。

目前項目產品部分原料仍需要外購，同時產品對原料質量和純度水平要求較高，面臨原料價格波動、質量受限或者供應商相關政策波動等風險。

公司上海化學工業區工廠年產1千噸半導體光刻膠量產產線，主要包括年產300/400噸ArF及KrF光刻膠量產產線，通過采用超高純PFA（涂層）設備、引入高精度物料流量控制系統、配以自研的高精度高效率光刻過濾系統，可以實現ppt級金屬雜質及0.1um級別的顆粒管控，具備不同配方先進制程光刻膠的生產能力。

在ArF光刻膠產品方面，公司已經完成ArF光刻膠部分型號的開發，首批ArF光刻膠的各項出貨指標能對標國際光刻膠大廠產品，已具備量產能力，目前處于量產前的光刻工藝測試及產品驗證階段，能否驗證通過尚存在一定的不確定性。產能可同時供應國內大部分芯片制造商，能較好地滿足國內先進制程光刻膠的部分需求。

目前，公司G線光刻膠已經占據國內較大的市場份額；I線光刻膠已廣泛應用于國內6"、8"、12"集成電路產線，支持的工藝制程涵蓋14nm及以上工藝。KrF光刻膠量產品種達20種以上，穩定供應國內頭部芯片制造商。