界面新聞記者 | 馮雨晨

一則互動平臺“出口光刻機”的回復引發蘇大維格（300331.SZ）股價20CM漲停后再引來關注函。

9月14日午間休市期間，蘇大維格在互動平臺回復投資者“公司光刻機已實現向國內龍頭芯片企業的銷售，并已實現向日本、韓國、以色列等國家的出口；同時，公司向國內相關芯片光刻機廠商提供了定位光柵尺部件。”以及“已關注到納米壓印光刻在集成電路和芯片制造領域具備替代傳統光刻的應用潛力，并在積極布局”。

正值光刻機概念火熱階段，當日下午，蘇大維格開盤后迅速拉升，直至20%漲停，成交額達到15.55億元，換手率高達25.89%。

質疑聲也紛至沓來，有報道指稱蘇大維格的“光刻機”并非真正的熱門光刻機，蘇大維格的光刻機為激光直寫光刻機，技術工藝和材料難度遠低于可用于各類芯片的批量生產的掩模光刻。

中航證券研報表示，泛半導體光刻技術可分為直寫光刻和掩模光刻。其中，直寫光刻精度較低，多用于IC后道封裝、低世代線平板顯示、PCB等領域；掩模光刻目前主流形式為投影式，光刻精度高，可用于IC制造的前道工藝，后道先進封裝，以及中高世代線的FPD生產。

9月14日晚間，蘇大維格再在互動平臺回復，明確表示公司對外銷售的光刻機主要為激光直寫光刻機。

蘇大維格解釋了兩種光刻機類型，并提到目前公司對外銷售的光刻機主要為激光直寫光刻機，在科研教育領域具有一定市占率，在納米壓印光刻領域公司設備主要為自用，對外銷售金額與直寫光刻機相比較小；此外，公司也開發了投影掃描的光刻設備，擬應用于光伏電鍍銅圖形化領域，目前尚未實現銷售。

雖然蘇大維格迅速做進一步解釋，但9月15日一早，蘇大維格就收深交所關注函。監管要求蘇大維格結合不同類型光刻設備的技術路線的差異，補充披露所生產光刻設備的具體類型、主要客戶及下游用途等情況，并核實說明其光刻設備是否能夠直接用于芯片研發及制造、主要技術參數是否與業內龍頭廠商存在較大差等。

此外，監管要求蘇大維格詳細說明納米壓印技術的具體用途、研發情況，以及在集成電路領域的布局情況險。按照要求，蘇大維格需在2023年9月22日前回復關注函。

值得一提的是，關注函中所用概念為“光刻設備”并非“光刻機”。此前有報道注意到，蘇大維格2023年半年報中表述和9月14日互動平臺上表述相似，其中提到的也是“光刻設備”。半年報提到：公司光刻設備已向國內某芯片龍頭企業實現銷售，并向國內廠商提供應用于IC芯片投影式光刻機的核心部件定位光柵尺產品。

因此，業內人士指出將“光刻設備”直寫“光刻機”是不專業行為，不排除是有意為之。

9月15日，蘇大維格證券部對界面新聞記者表示，“光刻機”表述此前在半年報、年報中均有所采用，今年半年報中，公司也明確提到“公司是國內領先的微納結構產品制造和技術服務商，通過自主研發微納光學關鍵制造設備——光刻機”等，公司在年報、半年報、互動易平臺對所涉光刻機、芯片光刻機等表述都是有明確定義的。

該人士進一步表示，目前也收到了交易所關注函，公司也將盡快盡快核對和積極回復。

二級市場方面，關注函難抵漲勢，截至9月15日午盤，蘇大維格繼續大漲13.13%，報收37.47元/股，市值較9月13日猛漲25.66億元，股價走出今年新高。